特許
J-GLOBAL ID:200903078018773907
オーミック電極の形成方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
大垣 孝
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-158640
公開番号(公開出願番号):特開平11-008419
出願日: 1997年06月16日
公開日(公表日): 1999年01月12日
要約:
【要約】【課題】 大気中でのオーミック電極の酸化を防止する。【解決手段】 下地10上にオーミック電極14を形成する工程と、真空を10-5Torr以下に保持した状態でオーミック電極の上面に貴金属膜16を形成する工程とを含むこと。
請求項(抜粋):
下地上にオーミック電極を形成する工程と、真空を10-5Torr以下に保持した状態で前記オーミック電極の上面に貴金属膜を形成する工程とを含むことを特徴とするオーミック電極の形成方法。
IPC (2件):
H01L 39/22 ZAA
, H01L 21/28 301
FI (2件):
H01L 39/22 ZAA G
, H01L 21/28 301 Z
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