特許

J-GLOBAL ID：200903078020477290

フッ素および/またはホウ素を含む排水の処理方法

発明者： 七海 匠 ,  細田 浩一
出願人/特許権者： オルガノ株式会社
代理人 (1件)： 千田 稔 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-093069
公開番号（公開出願番号）：特開2001-276814
出願日： 2000年03月30日
公開日（公表日）： 2001年10月09日
要約：

【要約】【課題】 フッ素および/またはホウ素を含む排水の処理方法を提供する。【解決手段】 フッ素およびホウ素を含む排水を凝集沈殿処理工程1において凝集沈殿処理することにより排水中のフッ素およびホウ素を粗取りし、生じた凝集処理水に残存するフッ素をフッ素吸着処理工程2において吸着除去し、生じたフッ素吸着処理水に残存するホウ素をホウ素吸着処理工程3において吸着除去する排水処理法において、フッ素吸着材およびホウ素吸着材を再生処理して生じた再生排液であって、ホウ素およびフッ素を含まない再生排液を凝集沈殿処理工程1以降の処理水のpH調整に使用する。

請求項（抜粋）：

フッ素を含む排水を凝集沈殿処理し、前記処理で得られた凝集処理水に残存するフッ素をフッ素吸着材に吸着させてフッ素吸着処理水を生じさせる、フッ素を含む排水の処理方法であって、前記吸着処理に用いたフッ素吸着材を再生する際に排出されるフッ素を含まない、酸性および/またはアルカリ性の再生排液が、前記凝集沈殿処理以降の被処理水のpH調整に使用されることを特徴とするフッ素を含む排水の処理方法。

IPC (3件)：

C02F 1/28 ,  C02F 1/52 ,  C02F 1/58

FI (6件)：

C02F 1/28 L ,  C02F 1/28 A ,  C02F 1/52 J ,  C02F 1/52 K ,  C02F 1/58 M ,  C02F 1/58 H

Fターム (52件)：

4D015BA04 ,  4D015BA12 ,  4D015BA19 ,  4D015BA23 ,  4D015BB08 ,  4D015BB16 ,  4D015CA17 ,  4D015CA20 ,  4D015DA05 ,  4D015DA24 ,  4D015DC02 ,  4D015EA14 ,  4D015EA15 ,  4D015EA17 ,  4D015EA31 ,  4D015FA02 ,  4D015FA11 ,  4D015FA22 ,  4D024AA04 ,  4D024AB11 ,  4D024AB14 ,  4D024BA17 ,  4D024DA07 ,  4D024DB20 ,  4D024DB21 ,  4D038AA08 ,  4D038AB25 ,  4D038AB41 ,  4D038AB42 ,  4D038AB82 ,  4D038BB06 ,  4D038BB08 ,  4D038BB13 ,  4D038BB18 ,  4D062BA04 ,  4D062BA12 ,  4D062BA19 ,  4D062BA23 ,  4D062BB08 ,  4D062BB16 ,  4D062CA17 ,  4D062CA20 ,  4D062DA05 ,  4D062DA24 ,  4D062DC02 ,  4D062EA14 ,  4D062EA15 ,  4D062EA17 ,  4D062EA31 ,  4D062FA02 ,  4D062FA11 ,  4D062FA22

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭59-039383
  
• 特開昭55-094691
  
• 特開昭63-264191