特許
J-GLOBAL ID：200903078022697948
電子ビーム露光装置及びその露光方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
前田 弘 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-332679
公開番号（公開出願番号）：特開平6-181172
出願日： 1992年12月14日
公開日（公表日）： 1994年06月28日
要約：
【要約】【目的】 半導体デバイスの微細加工のための電子ビームリソグラフィーにおいて描画スループットの向上と露光データ量の低減とを実現し、かつ任意パターンの形成に対応可能とする。【構成】 マトリックス状に配置された各々5μm程度の幅の多数の個別ビーム源を備えたマルチビーム源1から、露光データに従って個別ビーム源の各々を独立にオン・オフ制御することにより電子ビーム102を一斉に放出させる。放出された電子ビーム102を加速電圧2によって加速し、これを集束レンズ4により露光パターンビーム6として試料7上に倍率1/100で一括縮小転写する。電子ビーム102を偏向系5により同時に偏向させることにより、マルチビーム源1に対応する試料7のマトリックス領域毎に順次露光を行なう。
請求項（抜粋）：
半導体デバイスの微細加工のための電子ビームリソグラフィーに用いられる電子ビーム露光装置であって、マトリックス形状に電子ビームを放出するように配置された多数の個別ビーム源を有する電子銃と、露光データを取り込み、前記電子銃の多数の個別ビーム源のうちの半導体デバイスのパターン位置に対応する個別ビーム源のみを同時にオンさせることによってそれぞれ電子ビームを放出させるように、該個別ビーム源の各々を前記露光データに従って独立に制御するための制御部と、前記電子銃から放出された各電子ビームに電圧をかけることによって該電子ビームを加速するための加速部と、レジストを塗布した試料上に前記加速部により加速された各電子ビームを同時に照射するように該電子ビームを同時に偏向させるための偏向部と、前記試料のマトリックス領域毎に順次露光を行なうように該試料を移動させるための試料ステージ部とを備えたことを特徴とする電子ビーム露光装置。
FI (2件)：
H01L 21/30 341 W
, H01L 21/30 341 B
