特許

J-GLOBAL ID：200903078024117329

電子線描画装置によるパターン描画方法

発明者： 大木 茂久 ,  柴山 昭則
出願人/特許権者： 日本電信電話株式会社
代理人 (1件)： 小林 将高
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-072185
公開番号（公開出願番号）：特開平5-234863
出願日： 1992年02月24日
公開日（公表日）： 1993年09月10日
要約：

【要約】【目的】 1回に描画しうる範囲内の大きさに分割した部分図形間の接続に誤差が生じないようにする。【構成】 同一の図形データから作成した分割された部分領域の配置位置が異なる3つの描画データを用いる。部分領域1の1つの角の座標は(x0 ,y0 )、部分領域2の1つの角の座標は(x0 +dx/3,y0 +dy/3)、部分領域3の1つの角の座標は(x0 +2dx/3,y0 +2dy/3)で描画され、適正露光量を3分して、3個の描画データのそれぞれを33.3%の露光量で重ね合わせ描画することを特徴としている。

請求項（抜粋）：

複数の部分領域を合わせて所定の図形パターンを形成する電子線描画装置によるパターン描画方法において、nを2以上の正の整数、iを1からnまでの正の整数値をとる識別子として、部分領域の縦および横の寸法をそれぞれdxおよびdyにより定義し、Δxi およびΔyi をそれぞれdxおよびdyを越えない範囲の数値をもつ量と定義するとき、1つの部分領域の境界の1つの角の座標が(x0 ,y0 )にあるとき、他の組の部分領域の境界の1つの角の座標が(x0 +Δxi ,y0 +Δyi )に位置するよう複数組に分割し、これら各組の部分領域の露光をn回重ね合わせて前記所定の図形パターンを描画することを特徴とする電子線描画装置によるパターン描画方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 341 M ,  H01L 21/30 341 J