特許

J-GLOBAL ID：200903078024484178

感光性樹脂組成物およびポジ型パターン形成方法

発明者： 宮本 真奈
出願人/特許権者： 京セラケミカル株式会社
代理人 (1件)： 諸田 英二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-006840
公開番号（公開出願番号）：特開2003-207894
出願日： 2002年01月16日
公開日（公表日）： 2003年07月25日
要約：

【要約】【課題】 アルカリ水溶液にてパターン形成が可能で、かつポジ型の感光性を有する耐熱性樹脂組成物と、それを用いた耐熱性パターン形成方法を提供する。【解決手段】 (A)次の繰返し単位をもつ感光性重合体、(式中、R1 、R2 は、芳香族基、又は複数の芳香族環が単結合又は-O-、-CO-、-SO2 -、-CH2 -若しくは-C(CF3 )2 -で結合された有機基、R3 はアルキル基、nは1以上の整数)(B)活性光線によって酸性化合物に変化する光酸発生剤および(C)溶剤からなることを特徴とする感光性樹脂組成物であり、この組成物による塗膜を露光し、アルカリ水溶液を使用して現像、イミド化するポジ型パターン形成方法である。

請求項（抜粋）：

(A)次の繰返し単位をもつ感光性重合体、【化1】(但し、式中、R1 は、4価の芳香族基、複数の芳香族環が単結合された4価の有機基、又は複数の芳香族環が-O-、-CO-、-SO2 -、-CH2 -若しくは-C(CF3 )2 -で結合された4価の有機基であり、R2 は、2価の芳香族基、複数の芳香族環が単結合された2価の有機基、又は複数の芳香族環が-O-、-CO-、-SO2 -、-CH2 -若しくは-C(CF3 )2 -で結合された2価の芳香族基であり、R3 はアルキル基であり、そしてnは1以上の整数である)(B)活性光線によって酸性化合物に変化する光酸発生剤および(C)溶剤からなることを特徴とする感光性樹脂組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/039 ,  C08G 73/10 ,  G03F 7/037 501 ,  G03F 7/40 521 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 7/039 ,  C08G 73/10 ,  G03F 7/037 501 ,  G03F 7/40 521 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (66件)：

2H025AA02 ,  2H025AA10 ,  2H025AA20 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB25 ,  2H025CB41 ,  2H025CC03 ,  2H025FA17 ,  2H025FA29 ,  2H096AA25 ,  2H096BA11 ,  2H096EA05 ,  2H096GA08 ,  2H096HA01 ,  4J043PA02 ,  4J043PC076 ,  4J043PC116 ,  4J043QB31 ,  4J043QC16 ,  4J043RA08 ,  4J043RA23 ,  4J043SA06 ,  4J043SA32 ,  4J043SA42 ,  4J043SA47 ,  4J043SA54 ,  4J043SA62 ,  4J043SA72 ,  4J043SA82 ,  4J043SB01 ,  4J043SB02 ,  4J043TA14 ,  4J043TA22 ,  4J043TA32 ,  4J043TB01 ,  4J043TB02 ,  4J043UA032 ,  4J043UA041 ,  4J043UA042 ,  4J043UA052 ,  4J043UA121 ,  4J043UA122 ,  4J043UA131 ,  4J043UA132 ,  4J043UA251 ,  4J043UA261 ,  4J043UA262 ,  4J043UB011 ,  4J043UB061 ,  4J043UB121 ,  4J043UB291 ,  4J043UB301 ,  4J043UB302 ,  4J043UB311 ,  4J043VA021 ,  4J043VA022 ,  4J043VA041 ,  4J043VA042 ,  4J043XA13 ,  4J043ZB22