特許

J-GLOBAL ID：200903078026875069

マスクの白欠陥修正方法

発明者： 高岡 修 ,  矢部 悟
出願人/特許権者： セイコーインスツルメンツ株式会社
代理人 (1件)： 坂上 正明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-035797
公開番号（公開出願番号）：特開2002-244276
出願日： 2001年02月13日
公開日（公表日）： 2002年08月30日
要約：

【要約】【課題】 イオンビームを用いた欠陥修正装置では修正し難いタイプの白欠陥の修正を可能にする。【解決手段】 イオンビームを用いた欠陥修正装置では修正し難い白欠陥に対してAFM等で観察する。カーボンナノチューブでできたプローブ顕微鏡の探針1を修正しようとする欠陥2の直上に持って行き、探針にパルス電圧をかけて探針直下にカーボン含有膜4を生成する。原料であるカーボンナノチューブの消費に対しては、複数のカーボンナノチューブ探針を用意し、切り替えて使用する。比較的大きな欠陥に対しては一次元や二次元状に配置されたカーボンナノチューブ探針のパルス電圧を形状に合わせて選択的にパルス電圧をON/OFFすることで、スループットを向上させる。

請求項（抜粋）：

カーボンナノチューブでできた走査プローブ顕微鏡の探針にパルス電界をかけて発生したカーボン膜によりマスクの白欠陥を修正することを特徴とするマスクの白欠陥修正方法。

IPC (2件)：

G03F 1/08 ,  H01J 37/30

FI (2件)：

G03F 1/08 W ,  H01J 37/30 Z

Fターム (7件)：

2H095BD33 ,  2H095BD35 ,  5C034AA02 ,  5C034AA03 ,  5C034AA09 ,  5C034AB04 ,  5C034AB07