特許

J-GLOBAL ID：200903078031786341

金属酸化物薄膜の製膜用のエステル溶媒を用いた組成物および方法とこの薄膜を含む電子デバイス

発明者： 内田 寛人 ,  曽山 信幸 ,  影山 謙介 ,  小木 勝実 ,  ベーコン,ジェフリー・ダブリュー ,  スコット,マイケル・シー ,  マクミラン,ラリー・ディー ,  パズデアラウジョ,カルロス・エイ
出願人/特許権者： シンメトリックス・コーポレイション ,  三菱マテリアル株式会社
代理人 (1件)： 広瀬 章一
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-528977
公開番号（公開出願番号）：特表2001-509766
出願日： 1997年12月23日
公開日（公表日）： 2001年07月24日
要約：

【要約】金属有機液体先駆物質溶液は、エステル溶媒中に分散させた金属有機錯体を含む。エステル溶媒は、溶液中の強い電気的陽性の金属の析出を防止するために、中程度の長さの炭素鎖を有する。液体先駆物質溶液を用いて均一な膜厚と安定した品質の金属酸化物薄膜が成膜される。

請求項（抜粋）：

金属酸化物薄膜の成膜用溶液であって、 金属カルボキシラート部分の焼成後にその金属の酸化物を生じさせるのに有効な量の、少なくとも1種の金属カルボキシラートを有する金属カルボキシラート部分、および 炭素数4〜10のカルボキシラート部分を持ったエステルを含んでいる、溶液の20重量%以上を占める溶媒、により特徴づけられる溶液。

IPC (7件)：

C01G 35/00 ,  C01B 13/32 ,  C01G 33/00 ,  C23C 18/12 ,  H01L 21/8242 ,  H01L 27/10 451 ,  H01L 27/108

FI (6件)：

C01G 35/00 C ,  C01B 13/32 ,  C01G 33/00 A ,  C23C 18/12 ,  H01L 27/10 451 ,  H01L 27/10 651

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 金属酸化物の前駆体と製造方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平6-511197   出願人：サイメトリックスコーポレイション
• 特表平7-502149
  
• 特表平7-502150
  
• 層状超格子物質を作製し、それを含む電子デバイスを作製する方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願平6-511140   出願人：シメトリックス・コーポレーション, オリンパス光学工業株式会社

引用文献：

審査官引用 (2件)

• Preparation and ferroelectric properties of SrBi2Ta2O9 thin films
• Microstructural evolution and epitaxial alignment of thin films of lithium niobate deposited onto sa