特許
J-GLOBAL ID：200903078033394220
光接着方法、及びマイクロチップの作製方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉村 興作
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-126359
公開番号（公開出願番号）：特開2004-331731
出願日： 2003年05月01日
公開日（公表日）： 2004年11月25日
要約：
【課題】マイクロチップなどの微細な部品を簡易かつ高精度に作製することができる新規な技術を提供する。【解決手段】ガラス基板11とシリコーンゴム12とを密着させ、ガラス基板11側から波長200nm以下の真空紫外光を照射し、シリコーンゴム12中に前記真空紫外光によって光酸化反応を生ぜしめ、シリコーンゴム12の、ガラス基板11側において酸化層12Aを形成する。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
ガラス基板とシリコーンゴムとを密着する工程と、
前記ガラス基板側から真空紫外光を照射して、前記シリコーンゴムの、少なくとも前記ガラス基板と接触する側に光酸化反応を生ぜしめて酸化層を形成し、前記酸化層を介して前記ガラス基板と前記シリコーンゴムとを固着する工程と、
を具えることを特徴とする、光接着方法。
IPC (4件)：
C09J183/04
, C09J5/00
, G01N35/08
, G01N37/00
C09J183/04
, C09J5/00
, G01N35/08 Z
, G01N37/00 101
2G058DA00
, 2G058DA07
, 4J040EK03
, 4J040LA06
, 4J040MA05
, 4J040MB14
, 4J040NA04
, 4J040NA20
, 4J040PA32
