特許

J-GLOBAL ID：200903078039925596

エキシマレーザー加工装置

発明者： 藤井 直樹
出願人/特許権者： シチズン時計株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-164923
公開番号（公開出願番号）：特開平9-015867
出願日： 1995年06月30日
公開日（公表日）： 1997年01月17日
要約：

【要約】【目的】 エキシマレーザー加工装置の精度向上、作業性の改善、使用可能マスク材料の多品種化及びマスク寿命の長期化、マスク形状の連続可変による3次元自由曲面加工の実現可能なエキシマレーザー加工装置を提供する。【構成】エキシマレーザー発光装置から出射されたレーザー光を拡大するビームエキスパンダ光学系4とパターン変更可能な表示板マスク5と表示板マスク5を制御する制御装置8と投影レンズ6により構成される。【効果】マスクパターン変更時にマスクの取り替えの必要が無いため従来マスク切り替え時に生じていた取付誤差をなくすことができ又、マスク切り替え作業時間の大幅な短縮及び加工中でのマスクパターン変更も可能となり3次元の自由曲面加工も可能となる。

請求項（抜粋）：

エキシマレーザー加工装置の露光マスクに表示板を用いたエキシマレーザー加工装置。

IPC (6件)：

G03F 7/20 521 ,  G02F 1/13 505 ,  G03B 27/72 ,  H01L 21/027 ,  H01S 3/10 ,  H01S 3/225

FI (8件)：

G03F 7/20 521 ,  G02F 1/13 505 ,  G03B 27/72 ,  H01S 3/10 Z ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 515 F ,  H01L 21/30 515 B ,  H01S 3/223 E