特許

J-GLOBAL ID：200903078045894155

硫酸液からの板状二水石膏の連続製造法

発明者： 井上 洋 ,  渡辺 堅治 ,  小山 光弘 ,  松田 義勝
出願人/特許権者： 小坂製錬株式会社 ,  同和鉱業株式会社
代理人 (1件)： 丸岡 政彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-151701
公開番号（公開出願番号）：特開平7-330329
出願日： 1994年06月09日
公開日（公表日）： 1995年12月19日
要約：

【要約】【目的】 希硫酸と中和剤を直接反応させる直接二水法によっても、ボード用原料等に適する良質二水石膏が得られ、工程の連続化もできる改良された直接二水法を提供すること。【構成】 稀釈槽2で98%硫酸を15%に調整すると共に、カサ密度0.5g/cm3 の二水石膏を添加し、さらに媒晶剤として硫酸バンドを2.5〜20g/l 加えて攪拌して得た液を第1中和槽5に送り、これに30%炭酸カルシウム溶液を添加する。これを攪拌して得た二水石膏スラリーを第二中和槽6に送り、攪拌しながら、pH2.5前後、液温45°C前後に調整して生成二水石膏の板状化を計る。得られた二水石膏スラリーを繰返槽7を経由して一部を稀釈槽2に送り、残りは石膏受槽8内に静置させた後固液分離する。

請求項（抜粋）：

硫酸溶液中に中和剤を添加して二水石膏を製造する直接二水法であって、稀釈槽中で硫酸濃度を3〜20wt% に調整した液に媒晶剤を添加し、該液を第一中和槽に供給する第一工程、次いで別途濃度調整した炭酸カルシウム溶液を第一中和槽に添加してpHを1.1〜6に調整しながら攪拌して二水石膏を生成させ、得られた石膏スラリーを第二中和槽に供給する第二工程、第二工程で得られた石膏スラリー液を繰返槽に導き、攪拌しながら一部スラリー液を種結晶として前記稀釈槽に供給し、一部は石膏受槽に供給する第三工程、第三工程で得た石膏スラリー液を攪拌し、生成した板状体二水石膏を濾過分離する第四工程、からなることを特徴とする硫酸液からの板状二水石膏の連続製造法。