特許

J-GLOBAL ID：200903078086951325

高純度二酸化ケイ素の製造方法

発明者： 原田 功 ,  安武 剛 ,  芳野 正 ,  小野 隆 ,  角 哲雄
出願人/特許権者： 三井化学株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-335856
公開番号（公開出願番号）：特開平11-171530
出願日： 1997年12月05日
公開日（公表日）： 1999年06月29日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 ハロゲンを含まない可燃性ケイ素化合物を用いた二酸化ケイ素を高純度、かつ安定的に製造する方法の提供。【解決手段】 炭化水素の燃焼用バーナーの火焔に、一つ以上の噴射ノズルからハロゲン成分を含まない可燃性ケイ素化合物を噴射し、燃焼させ高分散性二酸化ケイ素を製造する。可燃性ケイ素化合物としては、シラン、ジシラン、メトキシシラン、ビニルシランが例示される。

請求項（抜粋）：

炭化水素の燃焼用バーナーの火焔に、一つ以上の噴射ノズルからハロゲン成分を含まない可燃性ケイ素化合物を噴射し、燃焼させて高分散性二酸化ケイ素を製造することを特徴とする高純度二酸化ケイ素の製造方法。