特許
J-GLOBAL ID:200903078089310460
金属製極細管製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-060650
公開番号(公開出願番号):特開2004-232077
出願日: 2003年01月29日
公開日(公表日): 2004年08月19日
要約:
【課題】スパッタリング堆積法を用いて外径500μm、肉厚5μm以上の金属製極細管を作製することができる三次元微細創製法を提供する。【解決手段】イオン化されたアルゴン等の希ガス粒子が、チタン等の適度な機械的性質と耐食性に優れたターゲット材4に衝突し、ターゲット粒子3が表面からスパッタされる。基板5(コア材)は、基板ホルダー1に固定されたDCモータコントロールによって制御されたモータ2により1〜5rpmで回転している。ターゲット材料4と熱膨張係数が近いコア材5にターゲット材料4が堆積し、熱処理後、コア材5を腐食で極細管形状を得る。コア材5の外径変化、形状変化により、極細管内径と中空形状を制御可能とし、堆積したターゲット材料4による極細管などの三次元形状創製を特徴とする。また、希少金属を基板(コア材)に成膜する前に、耐食性と管摩擦係数の優れた材料を成膜することで、管内の摩擦の軽減、濡れ性の向上、耐食性の優れた極細管創製を特徴とする。【選択図】図1
請求項(抜粋):
加工変質層を含む表面酸化層の発生防止可能な真空中において、適度な機械的性質と耐食性に優れた金属(チタン、タンタル、ニオブ、ニッケル、クロム等)およびそれらの合金(ステンレス鋼などの耐食性の良好な合金を含む)をターゲット材料とし、外径または一辺が500μm以下の線状の基材表面上にスパッタリング堆積法を用いてターゲット材膜を成膜後,基材のみを腐食液により溶解することを特徴とする外径又は一辺が500μm以下で肉厚が5μm以上の管材を製造する方法。なお、基材はターゲット材料より耐食性が劣り、かつ熱膨張係数がターゲット材料のそれと近い材料を選ぶ必要がある。
IPC (1件):
FI (3件):
C23C14/58 Z
, A61B5/14 300H
, A61B5/14 300J
Fターム (25件):
4C038TA05
, 4C038TA06
, 4C038UH01
, 4C038UH10
, 4C038UJ01
, 4C038UJ10
, 4C066AA07
, 4C066BB01
, 4C066CC01
, 4C066DD06
, 4C066EE14
, 4C066FF05
, 4C066PP01
, 4K029AA02
, 4K029AA23
, 4K029BA02
, 4K029BA07
, 4K029BA12
, 4K029BA16
, 4K029BA17
, 4K029BA62
, 4K029BB02
, 4K029BD00
, 4K029CA05
, 4K029GA05
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