特許

J-GLOBAL ID：200903078098771535

高分子非線形光学材料および高分子非線形光学材料の製造方法

発明者： 土森 正昭 ,  小形 眞一 ,  渡辺 修 ,  岡田 茜
出願人/特許権者： 株式会社豊田中央研究所
代理人 (1件)： 大川 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-212126
公開番号（公開出願番号）：特開平8-220575
出願日： 1995年08月21日
公開日（公表日）： 1996年08月30日
要約：

【要約】【課題】 高分子非線形光学的材料の高温でのNLO成分の配向緩和を抑制して非線形光学特性を保持した材料とすることを目的とする。【解決手段】 高分子のマトリックス形成成分と、π電子共役系に少なくとも1つの電子供与基と少なくとも1つの電子吸引基とが結合した光学的非線形性成分と、を重合させてなる高分子非線形光学材料において、ウレア結合部を含む高分子非線形光学材料。ジイソシアナート化合物と、該ジイソシアナート化合物と反応してウレア結合部を形成するジアミン化合物と、該ジイソシアナート化合物と反応してウレタン結合を形成するジオール化合物のいずれか一方に構成成分としてNLO成分を含み、ジアミン化合物、ジオール化合物がそれぞれ規制された比率でジイソシアナート化合物と重合させることを特徴とする高分子非線形光学材料の製造方法。

請求項（抜粋）：

高分子のマトリックスと、π電子共役系に少なくとも1つの電子供与基と少なくとも1つの電子吸引基とが結合して該マトリックス中に分散保持された光学的非線形性成分とからなる高分子非線形光学材料において、該高分子マトリックス中、または光学的非線形性成分中、あるいは両者の結合部分にウレア結合部を含むことを特徴とする高分子非線形光学材料。

IPC (3件)：

G02F 1/35 504 ,  C08G 18/32 NDS ,  C08G 18/32 NDT

FI (3件)：

G02F 1/35 504 ,  C08G 18/32 NDS ,  C08G 18/32 NDT

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開平4-134057