特許

J-GLOBAL ID：200903078103357831

スキンケア石鹸

発明者： 朴 權煕 ,  朴 貞允
出願人/特許権者： 朴 權煕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-225188
公開番号（公開出願番号）：特開2000-044997
出願日： 1998年07月27日
公開日（公表日）： 2000年02月15日
要約：

【要約】【構成】 遠赤外線発散体の500〜700メッシュの微細粉を1.5〜4重量%含有してなる石鹸である。【効果】 本発明の石鹸は、遠赤外線が肌深く浸透して皮質の老廃物を吸着して外に導き出すことができ、しわを予防し、アトビー性皮膚炎、ニキビ、シミ、ソバカス等のトラブルから肌を守り、皮膚細胞の再生活性化と血液の循環を促進するため、肌の柔軟性が増す。また、皮膚に優しく、剌激を与えないため洗顔後つっぱり感がなく、使うほどに肌が美麗になり、弱い肌を保護し、荒肌や日焼けした肌のくすみをなくし、体臭、悪臭を取り除くことができるので、きわめて有効である。

請求項（抜粋）：

遠赤外線発散体の微細粉を1.5〜4重量%含有してなるスキンケア石鹸。

IPC (4件)：

C11D 9/18 ,  A61K 7/50 ,  C11D 9/38 ,  C11D 17/04

FI (4件)：

C11D 9/18 ,  A61K 7/50 ,  C11D 9/38 ,  C11D 17/04

Fターム (21件)：

4C083AA112 ,  4C083AC102 ,  4C083AC122 ,  4C083AC242 ,  4C083AD222 ,  4C083BB26 ,  4C083CC02 ,  4C083CC23 ,  4C083EE10 ,  4C083EE12 ,  4H003AB03 ,  4H003BA01 ,  4H003BA10 ,  4H003DA02 ,  4H003EA27 ,  4H003EB43 ,  4H003FA02 ,  4H003FA15 ,  4H003FA25 ,  4H003FA33 ,  4H003FA48