特許
J-GLOBAL ID：200903078107780496

低反射樹脂基材及びその製造方法

発明者：
猪又 宏之

猪又 宏之 について

, 
斉藤 靖弘

斉藤 靖弘 について


出願人/特許権者：
日本板硝子株式会社

日本板硝子株式会社 について


代理人 (1件)： 松永 孝義
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-131053
公開番号（公開出願番号）：特開2002-328202
出願日： 2001年04月27日
公開日（公表日）： 2002年11月15日
要約：
【要約】【課題】 樹脂基材の表面に基材との密着性のよい、単層の反射防止膜を形成して、低反射樹脂基材を低コストで製造すること。【解決手段】 樹脂基材4の表面にアミノ基を有する有機珪素化合物を少なくとも含む1種以上の有機珪素化合物もしくはその加水分解物を含有する塗布液を樹脂基材の表面に塗布し、前記塗布液を乾燥することにより樹脂基材4の表面に第一次被膜2を形成し、前記第一次被膜2の上に屈折率が1.40以下であり、表面が凹凸形状である二酸化珪素膜2を形成させ反射防止樹脂基材の製造方法。
請求項（抜粋）：
アミノ基を有する有機珪素化合物を少なくとも含む1種以上の有機珪素化合物もしくはその加水分解物を含有する塗布液を樹脂基材の表面に塗布し、前記塗布液を乾燥することにより樹脂基材の表面に第一次被膜を形成し、前記第一次被膜の上に屈折率が1.40以下であり、表面が凹凸形状である二酸化珪素膜を形成させたことを特徴とする低反射樹脂基材の製造方法。
IPC (8件)：
G02B 1/11 ,  B32B 7/02 103 ,  C08J 7/04 CER ,  C08J 7/04 CEZ ,  C09D 1/00 ,  C09D 5/28 ,  C09D183/08 ,  C08L101:00
FI (8件)：
B32B 7/02 103 ,  C08J 7/04 CER Z ,  C08J 7/04 CEZ ,  C09D 1/00 ,  C09D 5/28 ,  C09D183/08 ,  C08L101:00 ,  G02B 1/10 A
Fターム (50件)：
2K009AA02 ,  2K009AA12 ,  2K009BB14 ,  2K009BB24 ,  2K009CC03 ,  2K009CC09 ,  2K009CC21 ,  2K009CC24 ,  2K009CC34 ,  2K009CC42 ,  2K009DD02 ,  4F006AA11 ,  4F006AA12 ,  4F006AA22 ,  4F006AA31 ,  4F006AA36 ,  4F006AB39 ,  4F006AB67 ,  4F006BA14 ,  4F006CA05 ,  4F006DA04 ,  4F100AA20C ,  4F100AH03B ,  4F100AH06B ,  4F100AK01A ,  4F100AK02A ,  4F100AK03A ,  4F100AK25A ,  4F100AK45A ,  4F100AT00A ,  4F100CC01B ,  4F100CC01C ,  4F100DD07 ,  4F100EH46 ,  4F100EJ55 ,  4F100GB41 ,  4F100JK06 ,  4F100JN06 ,  4F100JN18C ,  4F100YY00C ,  4J038AA011 ,  4J038DL081 ,  4J038DL101 ,  4J038HA441 ,  4J038NA01 ,  4J038NA19 ,  4J038PB03 ,  4J038PB08 ,  4J038PB09 ,  4J038PC08
引用特許：
審査官引用 (3件)
  • 反射防止フイルム
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-052601   出願人：大日本印刷株式会社
  • 特開平4-149249
  • 特開平4-149249

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