特許

J-GLOBAL ID：200903078108815331

半導体製造設備用直線運動案内装置

発明者： 近藤 博光 ,  山田 博 ,  中野 賀泰 ,  金本 宗広
出願人/特許権者： エヌテイエヌ株式会社
代理人 (1件)： 江原 省吾
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-192237
公開番号（公開出願番号）：特開平5-126150
出願日： 1991年07月31日
公開日（公表日）： 1993年05月21日
要約：

【要約】【目的】 リニアボールベアリングやガイドローラ等の直線運動案内装置を、真空中、大気中の両方で耐久性に優れ、かつ、低発塵性のものとし、特に、半導体製造設備での使用に適したものとする。【構成】 リニアボールベアリングAまたはガイドローラBなどの直線運動部品の転がり摩擦または滑り摩擦を生ずる部位に、平均分子量が5000以下のポリテトラフルオロエチレン(PTFEテロマー)からなる固体潤滑被膜5を形成する。

請求項（抜粋）：

軸受本体と、該軸受本体に内装された長尺の軌道部材と、該軸受本体と軌道部材との間に介在させた転動体とからなる半導体製造設備用直線運動案内装置であって、上記直線運動案内装置の転がり摩擦または滑り摩擦を生じる表面のうち少なくとも転動体の表面に、平均分子量が5000以下のポリテトラフルオロエチレンからなる固体潤滑被膜を形成したことを特徴とする半導体製造設備用直線運動案内装置。

IPC (2件)：

F16C 29/06 ,  F16C 33/32

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開昭49-108452
  
• 特開昭63-000868
  
• 特開平3-119095