特許
J-GLOBAL ID：200903078112923491
ろ過膜洗浄方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
川合 誠 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-017023
公開番号（公開出願番号）：特開平8-206472
出願日： 1995年02月03日
公開日（公表日）： 1996年08月13日
要約：
【要約】【目的】膜が破損したり、被処理水の流れを阻害したりすることなく、膜モジュールを容易にかつ一様に洗浄することができるようにする。【構成】処理槽に膜分離装置32を浸漬(しんせき)し、該膜分離装置32によって被処理水から処理水を分離させる。処理槽内の被処理水を設定量だけ残留させて排出し、膜分離装置32の膜モジュール41を気相に露出させる。次に、残留した被処理水を処理槽の底部から取り出してスプレー装置35に供給し、スプレー装置35から膜モジュール41に噴射する。膜面を気相に露出しているので、被処理水が有する運動量を直接膜面に作用させることができる。したがって、膜面に付着した固形物を十分に剥離(はくり)させることができる。
請求項（抜粋）：
処理槽に膜分離装置を浸漬し、該膜分離装置によって被処理水から処理水を分離させる廃水処理装置のろ過膜洗浄方法において、(a)前記処理槽内の被処理水を設定量だけ残留させて排出し、前記膜分離装置の膜モジュールを気相に露出させ、(b)残留した被処理水を処理槽の底部から取り出してスプレー装置に供給し、該スプレー装置から膜モジュールに噴射することを特徴とするろ過膜洗浄方法。
引用特許：
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