特許
J-GLOBAL ID：200903078114708601
ステップ・アンド・スキャン描画を含むデバイス作製
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岡部 正夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-343913
公開番号（公開出願番号）：特開平5-251317
出願日： 1992年12月24日
公開日（公表日）： 1993年09月28日
要約：
【要約】【目的】 本件発明はサブミクロン設計則で作製される大規模集積回路に代表されるデバイスの作製に関する。【構成】 本件発明は像形成情報を含む荷電粒子の像形成材料上への投影からなるデバイスの作製方法であって、像形成情報はマスク要素に依存し、複数のマスク要素は像形成材料上にこのような連続した像を規定するのに必要であり、要素は、(1)支持支柱によって機械的な信頼性を保障するための寸法と堅さを有する支柱と、(2)そのような支柱に隣接したリソグラフィで規定されるスカート、とに起因して像形成領域と支柱の中間に連続したスカートを規定し、像形成は、構成されたこのような像形成の支柱とスカートの双方を除くよう粒子が図方向づけされるようなタイミングと大きさの方向変化電解との相互作用による像形成粒図の偏向が必要であることを特徴とする。
請求項（抜粋）：
連続した像を含む像形成情報を含む荷電粒子の像形成材料上への投影からなる少なくとも一つのリソグラフィ描画工程を含むデバイス製造方法であって、このような粒子は加速電荷によって決定される速度を有し、マスクの像形成領域を通過することにより像形成情報がこのような粒子に課せられるデバイスの製造方法において、含まれる像形成情報はマスク要素に依存し、複数のマスク要素は像形成材料上にこのような連続した像を規定するのに必要であり、要素は、(1)支持支柱によって機械的な信頼性を保障するための寸法と堅さを有する支柱と、(2)そのような支柱に隣接したリソグラフィで規定されるスカート、とに起因して像形成領域と支柱の中間に連続したスカートを規定し、像形成は、構成されたこのような像形成の支柱とスカートの双方を除くよう粒子が再方向づけされるようなタイミングと大きさの方向変化電解との相互作用による像形成粒子の偏向が必要であることを特徴とするデバイス製造方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, H01J 37/305
