特許
J-GLOBAL ID：200903078122560630
位相シフトマスク、その位相シフトマスクの製造方法およびその位相シフトマスクを用いた露光方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
深見 久郎 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-038725
公開番号（公開出願番号）：特開平7-168342
出願日： 1994年03月09日
公開日（公表日）： 1995年07月04日
要約：
【要約】【目的】 所望のパターン形状を容易に形成することのできる位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法および位相シフトマスクを用いた露光方法を提供する。【構成】 石英基板1は、露光光を透過する第1の光透過部1aと第2の光透過部1bとを有している。第1および第2の光透過部1a、1bは、双方を透過する露光光の位相が互いに180度変換されるよう構成されている。半遮光膜3が、第1および第2の光透過部1a、1b間に位置し、かつ第1および第2の光透過部1a、1bの一部領域に形成されている。またこの半遮光膜3は、3%以上30%以下の透過率を有している。
請求項（抜粋）：
露光光を透過する第1の光透過部と、前記第1の光透過部と隣り合い、かつ前記第1の光透過部を透過する露光光の位相と異なった位相で露光光を透過する第2の光透過部とを有する基板と、隣り合う前記第1および第2の光透過部の境界部に位置し、かつ前記第1および第2の光透過部の一部領域に形成された半遮光膜とを備え、前記第1の光透過部は、第1の透過領域と、前記半遮光膜が形成された第1の減衰透過領域とを有し、前記第1の透過領域を透過した露光光の強度は前記第1の減衰透過領域を透過した露光光の強度よりも大きく、前記第2の光透過部は、第2の透過領域と、前記半遮光膜が形成された第2の減衰透過領域とを有し、前記第2の透過領域を透過した露光光の強度は前記第2の減衰透過領域を透過した露光光の強度よりも大きく、前記半遮光膜の透過率は、3%以上30%以下である、位相シフトマスク。
IPC (3件)：
G03F 1/08
, G03F 7/20 521
, H01L 21/027
H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
