特許
J-GLOBAL ID:200903078125014806

磁気ヘッドの接続構造

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 井桁 貞一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-220548
公開番号(公開出願番号):特開平6-068445
出願日: 1992年08月20日
公開日(公表日): 1994年03月11日
要約:
【要約】【目的】 磁気記録再生装置、例えば磁気ディスク装置などに用いられる磁気ヘッドに係り、とくに可撓性支持体と磁気ヘッドとの接続構造に関し、磁気ヘッドと可撓性支持体との電気的及び機械的接続が作業効率良くでき、しかも磁気ヘッドが高速シーク時に安定走行できることを目的とする。【構成】 接続端子1bを媒体対向面に対し垂直な前面に備える薄膜磁気ヘッド1と、先端取付部2bを直角L形に折り曲げ、該直角L形折り曲げ部2bの一方の垂直折り曲げ部2b-1に前記薄膜磁気ヘッドの接続端子に対応し穿設する貫通孔2dと該貫通孔の内側面を含む前面の回りに形成する薄膜ランド2d-1と、該薄膜ランドに接続するように薄膜プロセスにより表面(あるいは裏面)に絶縁層2fを介し成膜する薄膜リード線2eとを備える可撓性支持体1とで構成する。
請求項(抜粋):
接続端子(1b)を媒体対向面に対し垂直な前面に備える薄膜磁気ヘッド(1) と、先端取付部(2b)を直角L形に折り曲げ、該直角L形折り曲げ部の一方の垂直折り曲げ部(2b-1)に前記薄膜磁気ヘッド(1) の接続端子(1b)に対応し穿設する貫通孔(2d)と該貫通孔(2d)の内側面を含む前面の回りに形成する薄膜ランド(2d-1)と該薄膜ランド(2d-1)に接続するように薄膜プロセスにより表面(あるいは裏面)に絶縁層(2f)を介し成膜する薄膜リード線(2e)とを備える可撓性支持体(2) とからなり、前記可撓性支持体(2) の貫通孔(2d)に半田を埋めて薄膜ランド(2d-1)と薄膜磁気ヘッド(1) の接続端子(1b)とを接続したことを特徴とする薄膜磁気ヘッドの接続構造。
IPC (3件):
G11B 5/60 ,  G11B 5/49 ,  G11B 21/21

前のページに戻る