特許

J-GLOBAL ID：200903078131178209

フォトレジスト用剥離液

発明者： 田口 敏 ,  末次 益実
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 久保山 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-002933
公開番号（公開出願番号）：特開平9-191007
出願日： 1996年01月11日
公開日（公表日）： 1997年07月22日
要約：

【要約】【課題】 基板上に塗布されたフォトレジスト膜を除去するための剥離液であって、特殊なリンス液によるリンス処理を必要とせず、かつ高温でポストベークされたフォトレジスト膜に対しても優れた剥離性能及び溶解性能を発現し得、さらに蒸留による再生・再利用が容易なフォトレジスト用剥離液を提供する。【解決手段】 基板上に塗布されたフォトレジスト膜を除去するための剥離液であって、(A)2-アミノアルコール、及び(B)3-メチル-3-メトキシブタノールからなり、(B)/(A)の重量比が0.6〜1.7であるフォトレジスト用剥離液。

請求項（抜粋）：

基板上に塗布されたフォトレジスト膜を除去するための剥離液であって、(A)2-アミノアルコール、及び(B)3-メチル-3-メトキシブタノールからなり、(B)/(A)の重量比が0.6〜1.7であるフォトレジスト用剥離液。

IPC (5件)：

H01L 21/308 ,  C11D 7/26 ,  C11D 7/32 ,  G03F 7/32 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

H01L 21/308 E ,  C11D 7/26 ,  C11D 7/32 ,  G03F 7/32 ,  H01L 21/30 569 E

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特公昭60-028664
  
• 特開昭49-070420