特許

J-GLOBAL ID：200903078134521982

酸化亜鉛薄膜の製造方法

発明者： 大山 正嗣 ,  作花 濟夫 ,  横尾 俊信
出願人/特許権者： 出光興産株式会社
代理人 (1件)： 大谷 保
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-104361
公開番号（公開出願番号）：特開平5-294623
出願日： 1992年04月23日
公開日（公表日）： 1993年11月09日
要約：

【要約】【目的】 均一かつ緻密でC軸が基板の表面に垂直に配向した酸化亜鉛薄膜を簡便かつ低コストで製造する方法の開発。【構成】 亜鉛化合物,溶媒および沸点250°C以下の含窒素有機化合物を混合し、加温,攪拌して塗布液を調製し、次いで該塗布液を基板に塗布したのち、熱処理してなる酸化亜鉛薄膜の製造方法。

請求項（抜粋）：

亜鉛化合物,沸点が250°C以下の含酸素有機化合物および沸点が250°C以下の含窒素有機化合物を混合し、35〜120°Cに加温,攪拌して塗布液を調製し、次いで該塗布液を基板に塗布したのち、熱処理することを特徴とする酸化亜鉛薄膜の製造方法。