特許
J-GLOBAL ID：200903078134942007
2,6-ジメチルナフタレンの製造法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
久保田 千賀志 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-095435
公開番号（公開出願番号）：特開平6-279326
出願日： 1993年03月30日
公開日（公表日）： 1994年10月04日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】 2,6-ジメチルナフタレン(2,6-DMN)を、工業的に効率よく製造する。【構成】 〔1〕NF、MMN類、これらの混合物を原料とし、ペンタシル型ゼオライトの存在下、ポリアルキルベンゼン(PAB)により、該原料の数1の式で示されるモル転化率を30%以下にしてトランスアルキル化し、DMN類を製造するA:原料中のNF、MMN類、これらの混合物のモル分率の和、B:生成物中のNF、MMN類、これらの混合物のモル分率の和〔2〕?@再利用不可のPAB、?A再利用可のPAB、?B未反応のNF、MMN類、?CDMN類の4留分に分離〔3〕?Cの留分のDMN類より2,6-DMNを分離〔4〕2,6-DMNを分離された後のDMN類を異性化して2,6-DMNを製造する〔1〕〜〔4〕の工程からなる。
請求項（抜粋）：
〔1〕ナフタレンまたはモノメチルナフタレン類あるいはこれらの混合物を原料とし、ペンタシル型ゼオライトの存在下において、ポリアルキルベンゼンにより、該原料の数1の式で示されるモル転化率を30%以下にしてトランスアルキル化し、ジメチルナフタレン類を製造する第1工程、【数1】〔2〕第1工程の反応混合物を、?@再利用できないポリアルキルベンゼン、?A再利用できるポリアルキルベンゼン、?B未反応のナフタレン、モノメチルナフタレン類、?Cジメチルナフタレン類の4留分に分離する第2工程、〔3〕第2工程で分離された?Cの留分のジメチルナフタレン類より2,6-ジメチルナフタレンを分離する第3工程、および〔4〕第3工程で2,6-ジメチルナフタレンを分離された後のジメチルナフタレン類を異性化して2,6-ジメチルナフタレンを製造する第4工程からなることを特徴とする2,6-ジメチルナフタレンの製造法。
IPC (3件)：
C07C 15/24
, C07C 6/12
, C07B 61/00 300
