特許

J-GLOBAL ID：200903078138363788

熱処理装置

発明者： 岩谷 伸雄
出願人/特許権者： 株式会社デンコー
代理人 (1件)： 逢坂 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-187369
公開番号（公開出願番号）：特開平7-018323
出願日： 1993年06月30日
公開日（公表日）： 1995年01月20日
要約：

【要約】【構成】 複数のガラス基板Wがカセット9に支持され、遠赤外線放射容器7に収容される。遠赤外線放射容器7は炉体2に収容され、ガラス基板W及びカセット9は遠赤外線放射容器7に実質的に密閉され、炉体2から遮蔽されている。炉体2内面には遠赤外線ヒータ5が設けられ、ヒータ5からの遠赤外線Hは、遠赤外線放射材層17、17を介してガラス基板Wを加熱する。【効果】 ガラス基板Wは、遠赤外線放射容器に実質的に密閉状態で収容されているので、装置内の空気の自然対流による移動が起こらず、この自然対流に起因する上下方向温度分布精度の低下や塵埃飛散してガラス基板に付着することがない。また、遠赤外線放射材層17を介しての間接加熱により、熱処理温度のバラツキを小さくできる。その結果、熱処理が施されたガラス基板は、高品質が保証されるのみならず、一括処理によって高い生産性を以て熱処理を受ける。

請求項（抜粋）：

複数の被処理物を支持する被処理物支持手段と、この被処理物支持手段を実質的に密閉状態で収容しかつ加熱用エネルギー放出手段を具備する収容手段と、この収容手段の全周を囲む前記加熱用エネルギーの供給源とを有する熱処理装置。

IPC (5件)：

C21D 1/00 117 ,  C21D 1/00 111 ,  C21D 1/34 ,  G02F 1/13 101 ,  G02F 1/1333 500