特許

J-GLOBAL ID：200903078143867298

反応射出成形型の製造方法

発明者： 古屋 民雄 ,  西野 正訓 ,  木村 実基彦 ,  木川 圭一
出願人/特許権者： 本田技研工業株式会社
代理人 (1件)： 下田 容一郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-339649
公開番号（公開出願番号）：特開平5-147079
出願日： 1991年11月28日
公開日（公表日）： 1993年06月15日
要約：

【要約】【目的】 本発明は、例えば反応射出成形(RIM成形)における成形型の製作に関し、製作労力を軽減し且つ歩留りの向上を図った製造方法に関する。【構成】 製品形状に合せて下型1を金型素材から製作し、仮上型2を透明な素材で製作するとともに、この下型1と仮上型2を使用して成形トライを行うことによって材料の流動状態を目視で解析し、この解析結果に基づいて上型を製作する。かかる方法によると不具合箇所が早期に特定され、歩留りが向上する。

請求項（抜粋）：

製品形状に合せて金型素材から一方の型を製作する工程と、製品形状に合せて透明な素材から他方の仮型を製作する工程と、これら両型を用いて反応射出成形を行い流動状態を目視で解析する工程と、この解析結果に基づいて仮型を改修する工程と、改修後の仮型によって成形不良が発生しないことを確認する工程と、最終的な仮型の形状に基づいて金型素材から他方の型を製作する工程からなることを特徴とする反応射出成形型の製造方法。

IPC (5件)：

B29C 45/26 ,  B21D 37/20 ,  B29C 39/26 ,  B29C 45/00 ,  B29K105:04