特許
J-GLOBAL ID:200903078160022579

髪用洗浄化粧品組成物およびその使用

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 志賀 正武 (外1名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-505540
公開番号(公開出願番号):特表平11-500446
出願日: 1996年06月13日
公開日(公表日): 1999年01月12日
要約:
【要約】化粧品的に許容可能な媒体に、洗浄ベースと少なくとも1つのカチオンポリマーを含有し、少なくとも1つのアニオン性の炭化水素基がグラフトしたシリコーン主鎖を含む少なくとも1つの水溶性または水分散性のシリコーン誘導体をさらに含有する新規な洗浄ヘアケア組成物。該組成物は、改善されたスタイリング特性を有し、髪の洗浄、コンディショニングおよびスタイリングに用いられる。
請求項(抜粋):
化粧品的に許容可能な媒体に、洗浄ベースと少なくとも1つのカチオンポリマーを含有するタイプの髪の洗浄用組成物において、少なくとも1つのアニオン性の炭化水素基がグラフトしたシリコーン主鎖を含む、少なくとも1つの水溶性または水分散性のシリコーン誘導体をさらに含有することを特徴とする組成物。
IPC (2件):
A61K 7/075 ,  C11D 3/37
FI (2件):
A61K 7/075 ,  C11D 3/37
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 特表平7-508027
  • 毛髪化粧料組成物
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-297210   出願人:三菱油化株式会社
  • ヘアシャンプー組成物
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-220256   出願人:花王株式会社
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