特許

J-GLOBAL ID：200903078160599752

NDフィルタの製造方法及びこのNDフィルタを有する光量絞り装置及びカメラ

発明者： 若林 孝幸 ,  柳 道男 ,  内山 真志 ,  石井 史江
出願人/特許権者： キヤノン電子株式会社
代理人 (1件)： 長尾 達也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-276774
公開番号（公開出願番号）：特開2004-117467
出願日： 2002年09月24日
公開日（公表日）： 2004年04月15日
要約：

【課題】基板とマスクとの間にスペースを作り出すための治具等を必要とせず、濃度分布を簡単に制御することができるNDフィルタの製造方法を提供する。【解決手段】スリット部5に角度の調節可能な遮蔽板3、4を設けたスリットマスク2を用い、そのスリットマスク2を基板と一体的に公転させて基板を成膜する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

成膜工程中、マスクで膜材料の一部を遮蔽することによって基板上にグラデーション濃度分布を形成するNDフィルタの製造方法であって、 前記マスクは、開口部と、マスク面となす角度の調節が可能な遮蔽板とを有し、前記マスクと前記基板とを一体的に公転して前記基板を成膜することを特徴とするNDフィルタの製造方法。

IPC (4件)：

G02B5/00 ,  G03B7/085 ,  G03B9/02 ,  G03B11/00

FI (4件)：

G02B5/00 A ,  G03B7/085 ,  G03B9/02 A ,  G03B11/00

Fターム (16件)：

2H002CC21 ,  2H002CC25 ,  2H002JA07 ,  2H002JA08 ,  2H042AA11 ,  2H042AA22 ,  2H080AA20 ,  2H080AA31 ,  2H080DD01 ,  2H083AA05 ,  2H083AA11 ,  2H083AA19 ,  2H083AA26 ,  2H083AA32 ,  2H083AA50 ,  2H083AA53

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 楕円形グラデーションNDフィルタの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-205312   出願人：富士写真光機株式会社
• レンズの絞り調整装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-228272   出願人：ソニー株式会社
• 光学絞り用NDフィルターの製造方法と絞り装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-250240   出願人：キヤノン電子株式会社, 三井東圧化学株式会社
• NDフィルタの製造方法及びNDフィルタ、並びにこれらのNDフィルタを有する光量絞り装置及びカメラ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-220770   出願人：キヤノン電子株式会社