特許
J-GLOBAL ID：200903078168811785
内部誘導コイルアンテナと導電性チャンバ壁とを有するRFプラズマエッチリアクタ
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 芳樹 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-502694
公開番号（公開出願番号）：特表2000-516405
出願日： 1998年06月02日
公開日（公表日）： 2000年12月05日
要約：
【要約】導電性壁と、チャンバの内部に面した壁の一部分を形成する保護層とを備えるエッチチャンバを有するRFプラズマエッチリアクタ。保護層は、チャンバ内に形成されるプラズマによる、チャンバ壁からの材料のスパッタリングを防止する。エッチリアクタは、誘導結合によりプラズマを生成するために使用される、エッチチャンバ内に配設された誘導コイルアンテナも有する。チャンバ壁と同様に、誘導コイルアンテナは、プラズマによる、アンテナを作る材料のスパッタリングを防止されている。コイルアンテナは、チャンバ内に所望のパワーデポジションパターンを達成する必要があるどのような構成(例えば、位置、形状、向き)もとることができる。所望のパワーデポジションパターンを達成するための可能性のあるコイルアンテナ構成の実施形態は、一体型構造又はセグメント化構造を用いてコイルアンテナを構成することを含む。このセグメント化構造は、少なくとも二つのコイルセグメントの使用を伴ない、そこでは各セグメントが他のセグメントから電気的に隔離されて別々のRFパワー信号に結合されている。一体型コイルアンテナ又は各コイルセグメントは、平坦形、円筒形、円錐台形、ドーム形、又はそれらの組み合せ形状を有する。導電壁は接地されて、ワークピース支持ペデスタルのための接地体(すなわち陽極)として働き、ペデスタルは、RFパワーのソースに結合されて、ワークピースの表面でバイアス電圧が生成される。
請求項（抜粋）：
エッチチャンバの内部に面した壁の一部分を形成する保護層を備えた、チャンバ壁を有するエッチチャンバであって、該保護層が、前記チャンバ内で形成されるプラズマによる前記チャンバ壁のスパッタリングを防止することができるエッチチャンバと、 前記エッチチャンバの前記内部にエッチャントガスを導入することができるエッチャントガス噴射装置と、 エッチングされるワークピースを保持するために、前記エッチチャンバ内に配設されたペデスタルと、 前記エッチチャンバ内に配設され、誘導結合により前記チャンバ内に前記プラズマを発生するために前記エッチャントガス中にRFエネルギを放射することができ、プラズマによるアンテナのスパッタリングを防止するように構成されている誘導コイルアンテナと、を備えるRFプラズマエッチリアクタ。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/302 B
, H05H 1/46 L
