特許

J-GLOBAL ID：200903078178998921

倍率補正装置および倍率補正装置を搭載したX線露光装置ならびにデバイス製造方法

発明者： 春見 和之 ,  宮地 剛司
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 阪本 善朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-136078
公開番号（公開出願番号）：特開平10-312956
出願日： 1997年05月09日
公開日（公表日）： 1998年11月24日
要約：

【要約】【課題】 マスク姿勢が変化しても倍率補正の変化率が変化することがなく精度の高い倍率補正を行なうことができる倍率補正装置を搭載したX線露光装置。【解決手段】 マスクメンブレン2を有するマスク1はマスクθステージ5にチャッキングされてマスクチルトステージ6に搭載され、マスク1のフレーム6に荷重をかけてマスクを歪ませてパターンの倍率補正を行なう倍率補正機構7...はマスクθステージ5に搭載されている。露光等に際して、マスクメンブレン2とウエハ8の位置関係の調整のためにマスク1の姿勢をθ方向およびチルト方向に変化させても、倍率補正機構7...は、マスクθステージ5に搭載されているために、マスクの姿勢の変化に応じてその姿勢を変化させ、荷重の方向および作用点を不変に保つことができ、マスクパターンの倍率を一定に保ち、荷重に対する再現性の高い倍率補正を可能とする。

請求項（抜粋）：

パターンをマスクメンブレン上に有するマスクを支えるマスクフレームに外力を加えてマスクを伸縮させてパターンの倍率補正を行なう倍率補正機構および該倍率補正機構の姿勢および位置を前記マスクの姿勢に対応して変化させ、前記マスクに加える外力の作用点および方向をマスクの姿勢に拘らず常に一定にする手段を具備することを特徴とする倍率補正装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 531 A ,  G03F 7/20 503 ,  G03F 7/20 521