特許

J-GLOBAL ID：200903078189790290

フォトレジスト用ノボラック樹脂の製造方法

発明者： 天野 浩治 ,  村山 三素
出願人/特許権者： 住友ベークライト株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-069880
公開番号（公開出願番号）：特開2000-264941
出願日： 1999年03月16日
公開日（公表日）： 2000年09月26日
要約：

【要約】【課題】 アルカリ溶解速度が充分に制御され、その結果線幅が0.30μmと言う極めて微細なパターン形成を可能とする、ポジ型フォトレジスト用ノボラック樹脂を提供する。【解決手段】 フェノール類とアルデヒド類とを、芳香族炭化水素または脂肪族炭化水素を溶媒として使用し、圧力容器中、150°C以上の温度で反応させて得られる生成物を、架橋剤を用いて架橋反応させる。

請求項（抜粋）：

フェノール類とアルデヒド類とを、無極性溶媒中、高温高圧下で反応させて得られる生成物を、架橋剤を用いて架橋反応させることを特徴とする、フォトレジスト用ノボラック樹脂の製造方法。

IPC (4件)：

C08G 8/04 ,  C08G 61/02 ,  C08G 85/00 ,  G03F 7/032

FI (4件)：

C08G 8/04 ,  C08G 61/02 ,  C08G 85/00 ,  G03F 7/032

Fターム (35件)：

2H025AA00 ,  2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE01 ,  2H025CB29 ,  2H025CB51 ,  2H025CB56 ,  4J031CA06 ,  4J031CA12 ,  4J031CA13 ,  4J032CA03 ,  4J032CA04 ,  4J032CA06 ,  4J032CE03 ,  4J032CE06 ,  4J032CE12 ,  4J032CG01 ,  4J033CA01 ,  4J033CA02 ,  4J033CA03 ,  4J033CA05 ,  4J033CA11 ,  4J033CA12 ,  4J033CA13 ,  4J033CB02 ,  4J033CB03 ,  4J033CB25 ,  4J033HA02 ,  4J033HA12 ,  4J033HA21 ,  4J033HA23 ,  4J033HB10