特許

J-GLOBAL ID：200903078200295336

薄膜堆積装置

発明者： 平野 重成
出願人/特許権者： 富士フイルムマイクロデバイス株式会社 ,  富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 高橋 敬四郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-166358
公開番号（公開出願番号）：特開平6-010140
出願日： 1992年06月24日
公開日（公表日）： 1994年01月18日
要約：

【要約】【目的】 本発明はサセプタを備えた薄膜堆積装置に関し、下地上に堆積した薄膜の面内膜厚不均一を抑制することのできる薄膜堆積装置を提供することを目的とする。【構成】 複数の同心状段差部を有し、その最上段部分に半導体ウエファを載置するためのサセプタと、前記サセプタを載架するためのボートと、上記サセプタ、半導体ウエファおよびボートを収納するための反応管と、当該反応管にガスを供給し、かつ強制排気するための手段とを含むように構成する。

請求項（抜粋）：

複数の同心状段差部(2)を有し、その最上段部分に半導体ウエファ(4)を載置するためのサセプタ(3)と、前記サセプタ(3)を載架するためのボート(5)と、上記サセプタ(3)、半導体ウエファ(4)およびボート(5)を収納するための反応管(7)と、当該反応管(7)にガスを供給し、かつ強制排気するための手段とを含む薄膜堆積装置。

IPC (2件)：

C23C 16/44 ,  H01L 21/31