特許

J-GLOBAL ID：200903078203068764

シリカゲル電解質膜およびその製造方法、ならびに燃料電池

発明者： 高田 進
出願人/特許権者： ティーディーケイ株式会社
代理人 (1件)： 石井 陽一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-129394
公開番号（公開出願番号）：特開2002-324558
出願日： 2001年04月26日
公開日（公表日）： 2002年11月08日
要約：

【要約】【課題】 ゾルゲル法で作成したホスホシリケートゲルの含有量が多く、固体電解質膜としての機能を備え、取り扱いが容易なシリカゲル電解質膜とこれを用いた燃料電池、そしてシリカゲル電解質膜の製造方法を提供する。【解決手段】 ゾルゲル法で作られたホスホシリケートゲルと、高分子と、無機繊維(好ましくはセピオライト)とを含有し、前記高分子に対する前記ホスホシリケートゲルの含有比率が、300%(質量百分率)未満であるシリカゲル電解質膜とこれを用いた燃料電池であり、シリカゲル電解質膜の製造においては、上記の各成分を所定量含有する液状組成物(塗布液)から膜状体を得、これを硬化してシリカゲル電解質膜を得る。

請求項（抜粋）：

ゾルゲル法で作られたホスホシリケートゲルと、高分子と、無機繊維とを含有し、前記高分子に対する前記ホスホシリケートゲルの含有比率が、300%(質量百分率)未満であるシリカゲル電解質膜。

IPC (5件)：

H01M 8/02 ,  C08K 5/5415 ,  C08K 7/04 ,  C08L101/00 ,  H01M 8/10

FI (5件)：

H01M 8/02 P ,  C08K 5/5415 ,  C08K 7/04 ,  C08L101/00 ,  H01M 8/10

Fターム (18件)：

4J002CC181 ,  4J002CD131 ,  4J002CF031 ,  4J002CL001 ,  4J002DJ007 ,  4J002EX036 ,  4J002FA047 ,  4J002GQ01 ,  5H026AA06 ,  5H026BB01 ,  5H026BB03 ,  5H026CX02 ,  5H026CX05 ,  5H026EE11 ,  5H026EE12 ,  5H026EE18 ,  5H026HH03 ,  5H026HH05

引用特許：

審査官引用 (3件)

• プロトン伝導体および該プロトン伝導体を用いた電気化学素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-007203   出願人：松下電器産業株式会社, ジェイエスアール株式会社
• プロトン伝導体およびプロトン伝導体を用いた電気化学素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-047432   出願人：松下電器産業株式会社, 日本合成ゴム株式会社
• プロトン伝導性膜、その製造方法及びそれを用いた燃料電池
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-249319   出願人：経済産業省産業技術総合研究所長, 本間格, 積水化学工業株式会社