特許

J-GLOBAL ID：200903078203745189

自動焦点検出方法およびその装置並びに検査装置

発明者： 芝田 行広 ,  前田 俊二 ,  山口 和夫 ,  吉田 敦志 ,  吉田 実 ,  岡 健次 ,  牧平 坦 ,  中山 保彦
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 高橋 明夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-151734
公開番号（公開出願番号）：特開平11-052224
出願日： 1998年06月01日
公開日（公表日）： 1999年02月26日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】試料の反射率むらやウエーハに形成された絶縁膜による表層パターンのデフォーカスを低減可能な自動検出方法および装置を提供する。【解決手段】照明光を対物レンズ30によって光軸7に対して対称な斜め方向から試料上の同一個所に集光して照射し、試料1上に同一個所から反射して対物レンズに入射して得られる反射光を、光軸に対する対称な照射方向別に複数光像に分割し、分割された複数光像を光電変換素子100で受光して光の強度分布に応じた信号に変換して、光強度分布の中心と光軸の位置ずれに基づいて試料の焦点ずれを検出する。試料に絶縁膜が形成されている場合は、この薄膜内を反射した光の一部を遮光する。

請求項（抜粋）：

照明光を対物レンズによって光軸に対して対称な斜め方向から試料上の同一個所に集光して照射するステップと、前記試料上の同一個所から反射され、前記対物レンズを透過して得られた反射光を、照射方向別に分割するステップと、前記分割された前記反射光による光像を光電変換素子に照射し、照射された光の強度分布に応じた電気信号に変換するステップと、前記光電変換素子上の光の強度分布の中心と光軸からの位置ずれに基づいて試料の焦点ずれを検出するステップとからなる自動焦点検出方法。

IPC (3件)：

G02B 7/28 ,  G01N 21/88 ,  G03B 13/36

FI (3件)：

G02B 7/11 H ,  G01N 21/88 E ,  G03B 3/00 A