特許

J-GLOBAL ID：200903078210326841

露光用マスク及び露光方法

発明者： 櫛田 康之 ,  土井 一正 ,  直江 光史
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 井桁 貞一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-224879
公開番号（公開出願番号）：特開平7-077796
出願日： 1993年09月10日
公開日（公表日）： 1995年03月20日
要約：

【要約】【目的】 位相シフト構造を有する露光用マスクとその露光用マスクを使用する露光方法に関し、複数種類の微細パターンを総て解像度良く転写することが可能な露光用マスク及び露光方法を提供することを目的とする。【構成】 微細なホールパターン1と微細な線/間隔パターン2からなるパターンの転写に際し、露光用マスクを、ホールパターン1露光用のエッジ強調型位相シフト構造を有する第一の分割マスク10と、線/間隔パターン2露光用のレベンソン型位相シフト構造を有する第二の分割マスク20とで構成し、第一の分割マスク10と第二の分割マスク20とを順次使用して同一フォトレジスト膜を順次露光する。

請求項（抜粋）：

第一のパターン(1) と第二のパターン(2) を含む複数種類のパターンを露光するためのマスクであって、遮光膜(12)に設けた露光用開口の周縁に沿って位相シフタ(1B)を備えてなる第一の位相シフト構造を有する該第一のパターン(1) 露光用の第一の分割マスク(10)と、該第一の位相シフト構造とは少なくとも位相シフタの配置が異なる第二の位相シフト構造を有する該第二のパターン(2) 露光用の第二の分割マスク(20)を含む複数の分割マスクで構成したことを特徴とする露光用マスク。

IPC (3件)：

G03F 1/08 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 515 F ,  H01L 21/30 528