特許

J-GLOBAL ID：200903078214996540

プリンタによって印刷される画像の整合をモニターするための方法

発明者： エリク・ガブリエ・ジュラドゥ・ヴァン・ヴヴェルベール
出願人/特許権者： ゼイコン・ナムローゼ・フェンオーシャップ
代理人 (1件)： 古谷 馨 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-288260
公開番号（公開出願番号）：特開平11-192749
出願日： 1998年10月09日
公開日（公表日）： 1999年07月21日
要約：

【要約】【課題】 マルチステーションプリンタによって印刷される画像の整合を、必要とされる最小数の整合マークを印刷することによって、モニターするための方法を提供する。【解決手段】 隔置された整合マークの第1及び第2のパターン(116)は、印刷ステーション(102、104、106、108)の動作によって基体上に印刷される。第2のパターン(116)は部分的に第1のパターン(112)と重なり、整合マークの合成パターン(120)を形成する。合成パターン(120)は照射されて、その反射は、合成パターン(120)に関する反射信号(SM)を獲得するために、第1及び第2のパターンの補色的な複数の波長で測定される。合成パターン(120)の反射信号(SM)は、予め決められた信号(S0)と比較されて、プリンタに対する調整係数(fm、fc、fy)が決定される。

請求項（抜粋）：

少なくとも2つの印刷ステーション(102、104、106、108)が基体(110)上に印刷画像を生じるタイプのプリンタによって印刷される画像の整合をモニターするための方法であって、該プリンタが整合の調整を実行可能であり、前記方法は:(a)前記印刷ステーション(102、104、106、108)の内の1つの印刷ステーションの動作によって、隔置された整合マークの第1のパターン(112)を前記基体上(110)に印刷する;(b)前記印刷ステーション(102、104、106、108)の内の他の印刷ステーションの動作によって、隔置された整合マークの第2のパターン(116)を前記基体上(110)に印刷し、前記第2のパターン(116)は部分的に前記第1のパターン(112)と重なり、整合マーク及び介在する間隙の合成パターン(120)を形成する;(c)前記合成パターン(120)を照射し、その反射率を測定して前記合成パターン(120)に対する反射信号(SM)を得る;さらに(d)前記合成パターン(120)の前記反射信号(SM)と良好な整合を示す所定の信号(SO)を比較し、前記プリンタに関する調整係数(fm、fc、fy)を決定する;各ステップを含み、前記合成パターン(120)の反射率が、前記第1及び第2のパターンの色に対する補色である波長で測定されることを特徴とする方法。

IPC (2件)：

B41J 2/525 ,  B41J 29/46

FI (2件)：

B41J 3/00 B ,  B41J 29/46 C