特許

J-GLOBAL ID：200903078217469206

ポジ型レジスト組成物

発明者： 上谷 保則 ,  富岡 淳 ,  橋本 和彦 ,  坂本 宏 ,  中西 弘俊 ,  尾崎 晴喜
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 久保山 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-312269
公開番号（公開出願番号）：特開平7-168355
出願日： 1993年12月13日
公開日（公表日）： 1995年07月04日
要約：

【要約】【目的】 解像度、プロファイル、感度、耐熱性及び焦点深度等の諸性能のバランスに優れたポジ型レジスト組成物を提供する。【構成】 一般式【化1】〔式中、nは1〜3である。R1 〜R3 は水素、アルキル等を表わし、R4 はアルキル又はフェニルを表わすがnが1である場合にR1 〜R3 が全て異なるか、或いはR1 〜R3 が水素ではなく、且つこれらの中少なくとも1つは他の2つと同じでない。Q1 〜Q12は水素、アルキルもしくはフェニルである。Z1 〜Z5は【化2】(式中、R5 〜R7 は水素もしくはハロゲン等を表わすが、nが1である場合にR5 〜R7 が全て異なるか、或いはR5 〜R7 が水素ではなく、且つこれらの中少なくとも1つは他の2つと同じでない。pは0〜1である)を表わす。〕で示されるフェノール化合物の中の少なくとも1種のキノンジアジドスルホン酸エステルを含むキノンジアジド系感光剤及びアルカリ可溶性樹脂を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

一般式【化1】〔式中、nは1〜3の整数を表わす。R1 、R2 及びR3 は各々独立して水素もしくはハロゲン原子、-OCOR4 或いは置換されていてもよいアルキル、シクロアルキルもしくはアルコキシ基を表わし、R4 は置換されていてもよいアルキルもしくはフェニル基を表わすが、nが1である場合には、R1 、R2 及びR3が互いに異なるか、これらのいずれかが置換されていてもよいシクロアルキル基であるか、或いはR1 、R2 及びR3 が水素原子でなく且つこれらの中1つは他の2つと異なるものとする。Q1 〜Q12は各々独立して水素原子、アルキルもしくはフェニル基を表わす。Z1 〜Z5 は各々独立して下式【化2】(式中、R5 、R6 及びR7 は各々独立して水素もしくはハロゲン原子、-OCOR4 或いは置換されていてもよいアルキル、シクロアルキルもしくはアルコキシ基を表わし、R4 は前記と同じ意味を有するが、nが1である場合には、R5、R6 及びR7 が互いに異なるか、或いはR5 、R6 及びR7 が水素原子でなく且つこれらの中1つは他の2つと異なるものとする。pは0又は1を表わす。)で示される基を表わす。〕で示されるフェノール化合物の中の少なくとも1種のキノンジアジドスルホン酸エステルを含むキノンジアジド系感光剤及びアルカリ可溶性樹脂を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/022 ,  H01L 21/027