特許
J-GLOBAL ID:200903078239575409

光ファイバ素線の製造方法および製造装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 志賀 正武 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-154340
公開番号(公開出願番号):特開2000-344539
出願日: 1999年06月01日
公開日(公表日): 2000年12月12日
要約:
【要約】【課題】 光ファイバの移動を抑えつつ、また光ファイバの径の変化を防止しながら、光ファイバに捻れを生じせしめてPMDが小さい光ファイバを製造できるようにする。【解決手段】 光ファイバ母材1を線引きして光ファイバ3を形成し、光ファイバ3の周囲に被覆層を形成して光ファイバ素線11を形成する。光ファイバ素線11をターンプーリー9の周面と接触させて進行方向を変えるとともに、ターンプーリー9を回転軸方向に往復移動させることによって光ファイバ素線11をターンプーリー9の周面上で転動させ、光ファイバ3に捻れを生じせしめる。
請求項(抜粋):
光ファイバ母材を線引きして光ファイバを形成する工程と、該光ファイバの周囲に被覆層を形成して光ファイバ素線を形成する工程と、該光ファイバ素線をターンプーリーの周面と接触させて進行方向を変える工程を有し、前記ターンプーリーを回転軸方向に往復移動させることによって前記光ファイバ素線を前記ターンプーリーの周面上で転動させることを特徴とする光ファイバ素線の製造方法。
IPC (2件):
C03B 37/027 ,  G02B 6/00 356
FI (2件):
C03B 37/027 ,  G02B 6/00 356 A
Fターム (1件):
4G021HA01
引用特許:
審査官引用 (1件)

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