特許
J-GLOBAL ID：200903078248909255
PVD装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大川 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-273979
公開番号（公開出願番号）：特開平5-117853
出願日： 1991年10月22日
公開日（公表日）： 1993年05月14日
要約：
【要約】【目的】 長時間の成膜作業をしても、入射窓に蒸発粒子の付着の無いレーザPVD装置。【構成】 透明材料からなる入射窓3を介して照射される光1が透過する透過孔を中心に有する第1のアパーチャ4および第2のアパーチャを配置し、と、第1のアパーチャ4と第2のアパーチャ5の間にあって光1の通路を挟むように偏向電極6、7を設け、さらに第2のアパーチャ5よりターゲット側に高周波コイル9をその中心軸が光通路の中心軸と一致するように設けた。入射窓3の方向へ向かって飛来する蒸発粒子の中の中性粒子は高周波コイル9を通過する際に高周波放電によりイオン化する。その結果、もともとイオンの状態であった蒸発粒子も中性粒子であってイオン化された蒸発粒子も偏向電極に電圧を印加することにより、飛行方向を曲げられるので、蒸発粒子は第1のアパーチャに衝突し、蒸発粒子は入射窓3に到達することがない。
請求項（抜粋）：
透明材料からなる入射窓と、前記入射窓を介して照射される集光された光が透過する透過孔を中心に有する第1のアパーチャと、前記第1のアパーチャよりターゲット側に位置し前記第1のアパーチャを透過した光が透過する透過孔を中心に有する第2のアパーチャと、前記第1のアパーチャと第2のアパーチャの間にあって光の通路を挟むように設けられた偏向電極と、前記第2のアパーチャよりターゲット側に位置し中心軸が光通路の中心軸と一致するように設けられ内径が少なくとも光通路の直径よりも大きい高周波コイルとを具備したことを特徴とするPVD装置。
IPC (2件)：
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