特許
J-GLOBAL ID：200903078262798440
投影露光装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
曾我 道照 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-204989
公開番号（公開出願番号）：特開平5-275315
出願日： 1992年07月31日
公開日（公表日）： 1993年10月22日
要約：
【要約】【目的】 転写精度の向上を図る。【構成】 アパーチャー部材21は、光源11〜13から発した光を成形するための透過領域Dを有すると共に透過領域D内を横切るように帯状に形成された遮光部材24とを有しており、このアパーチャー部材21により光源11〜13から発した光のうち光学像のコントラスト及び焦点深度を劣化させる成分が遮断される。
請求項（抜粋）：
光源と、前記光源から発した光を回路パターンが形成されたマスク上に照射させる集光レンズ系と、前記マスクを通過した光をウエハ表面に集光させる投影レンズ系と、前記光源と前記集光レンズ系との間に配置されたアパーチャー部材とを備え、前記アパーチャー部材は前記光源から発した光を成形するための透過領域と前記透過領域内を横切るように帯状に形成された遮光部材とを有することを特徴とする投影露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
