特許
J-GLOBAL ID：200903078263658617
ベーパー洗浄装置
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井内 龍二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-345720
公開番号（公開出願番号）：特開平6-196469
出願日： 1992年12月25日
公開日（公表日）： 1994年07月15日
要約：
【要約】【構成】 チャンバー10に薬液33と溶媒34との混合ベーパーを噴出させるノズル18を備え、ノズル18に薬液タンク28及び溶媒タンク32がそれぞれ供給管26、30及びバルブ27、31を介して接続されたベーパー洗浄装置において、ノズル18、供給管27、28及びバルブ27、31に加熱手段41、42、43、44、45が埋設あるいは外装されているベーパーー洗浄装置。【効果】 HF及びH2 Oのベーパーを常に凝縮温度以上に加熱することができ、またベーパーの温度が次第に高められるため、物理現象的に安定したベーパーを発生させることができ、供給系統内でベーパーが凝縮するのを阻止することができる。したがって所望の混合比、供給量、均一性を有するHF、H2 Oの混合ベーパーをウエハ14表面に噴出させることができ、エッチングの均一性を高めることができるとともにパーティクルの発生を防止することができる。
請求項（抜粋）：
チャンバーに薬液と溶媒との混合ベーパーを噴出させるノズルを備え、該ノズルに薬液タンク及び溶媒タンクがそれぞれ供給管及びバルブを介して接続されたベーパー洗浄装置において、前記ノズル、前記供給管及び前記バルブに加熱手段が埋設あるいは外装されていることを特徴とするベーパー洗浄装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304 341
, B08B 3/10
