光導波路素子の加工方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小池隆彌
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-362338
公開番号（公開出願番号）：特開2000-180648
出願日： 1998年12月21日
公開日（公表日）： 2000年06月30日
要約：

【要約】【課題】光導波路素子において断面が円形であるファイバとのモードマッチングが得られず、クラッド層と遮光膜との密着性が悪く、半導体レーザからの漏れ光や外光によってSN比が低下する。【解決手段】基板1上に形成されたコア層3及び前記コア層3より屈折率の低いバッファ層2、オーバークラッド層5を有する光導波路素子において、前記導波路素子をエキシマレーザによるアブレーション加工を用いて、少なくとも光の入出力端以外を曲面形状あるいはテーパ形状に加工し、光の入出力部以外は遮光膜で覆う。

請求項（抜粋）：

レーザビームの照射により、基板上に形成されたコア層を所望の光導波路パターンに加工する光導波路素子の加工方法であって、レーザビームと被加工物との相対移動速度、並びに被加工物に照射するレーザビーム形状を特定することにより、被加工物である基板上に形成されたコア層を所望の光導波路パターンに加工することを特徴とする光導波路素子の加工方法。

IPC (2件)：

G02B 6/13 , G02B 6/122

FI (2件)：

G02B 6/12 M , G02B 6/12 C

Fターム (8件)：

2H047KA04 , 2H047LA24 , 2H047MA05 , 2H047PA02 , 2H047PA24 , 2H047QA05 , 2H047TA42 , 2H047TA44

引用特許：

審査官引用 (5件)

光導波路デバイスの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-076612 出願人：日本碍子株式会社
光導波路の製造方法及びその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-116512 出願人：太陽誘電株式会社
基体上における光導波体の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-124955 出願人：アルカテル・エヌ・ブイ

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