電極のクリーニング方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小川勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-139368
公開番号（公開出願番号）：特開平11-330056
出願日： 1998年05月21日
公開日（公表日）： 1999年11月30日
要約：

【要約】【課題】真空処理室内のステージ電極上に突発的に付着した異物を、前記真空処理室を大気解放することなく除去できる電極のクリーニング方法を提供する。【解決手段】真空処理室100内のステージ電極101上に裏面に凹部を有する裏面溝付基板109を搭載し、直流電源106により絶縁体製のステージ電極101に直流電圧を印加して、静電チャック方式により裏面溝付基板109を固定する。然る後、 Heガスライン109によりステージ電極101中央部付近よりHeガスを供給し、裏面溝付基板109の溝パターン部にHeガスを流すことにより、電極上に突発的に付着した異物を除去する。その結果、真空処理室を大気解放するすることなく電極のクリーニングが可能となり、装置のダウンタイムを大幅に低減でき、生産性が向上できる。

請求項（抜粋）：

真空処理室内にて基板上に所望の材料を堆積或いは加工するプラズマ処理装置の試料搭載用電極上に付着した異物を除去する手段が、真空或いは減圧雰囲気中で裏面に凹部パターンを具備した基板を前記電極上に搭載し、固定した状態で、前記凹部パターンにガスを流して電極面上の異物を除去することを特徴とする電極のクリーニング方法。

IPC (2件)：

H01L 21/3065 , H01L 21/31

FI (2件)：

H01L 21/302 C , H01L 21/31 C

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