特許
J-GLOBAL ID:200903078322604291

放射線画像処理方法および装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 柳田 征史 ,  佐久間 剛
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2008-127096
公開番号(公開出願番号):特開2009-273630
出願日: 2008年05月14日
公開日(公表日): 2009年11月26日
要約:
【課題】放射線検出器で撮影された画像中の欠陥画素について補正を行う放射線画像処理方法および装置において、画像中に変形欠陥画素と非変形欠陥画素の2種類がある場合、補正処理時間の短縮を図る。【解決手段】放射線検出器における蓄積時間毎および放射線検出器に対する放射線照射量毎に取得した複数の一様照射画像に基づいた複数の欠陥画素情報をデータベースDBに記憶し、通常画像中の各変形欠陥画素群については、欠陥画素情報中の変形欠陥画素群の中心位置に対応する位置における放射線照射量を特定して上記データベースDBから抽出した該当の欠陥画素情報に基づいて、通常画像中の各変形欠陥画素群に対応する画像データの補正を行い、通常画像中の非変形欠陥画素群については、データベースDBを参照することなく所定の画像処理にて各非変形欠陥画素群に対応する画像データの補正を行う。【選択図】図4
請求項(抜粋):
放射線検出器に対して放射線を一様に照射することにより取得された一様照射画像、または無曝射画像に基づいた欠陥画素情報を、前記放射線検出器における蓄積時間毎および/または前記放射線検出器に対する放射線照射量毎にデータベースに記憶し、 前記放射線検出器を用いて被写体を透過した放射線を検出することにより取得された通常画像中において、前記欠陥画素情報中の前記放射線検出器における蓄積時間および/または前記放射線検出器に対する放射線照射量に応じてサイズが変化する変形欠陥画素の位置に対応する前記放射線検出器の位置における放射線照射量を特定し、 前記通常画像中の各変形欠陥画素について、前記放射線検出器における蓄積時間および/または前記放射線検出器に対する放射線照射量に基づいて、前記データベースから該当する前記欠陥画素情報を抽出し、 抽出した前記欠陥画素情報に基づいて前記通常画像中の各変形欠陥画素に対応する画像データの補正を行い、 前記通常画像中の前記放射線検出器における蓄積時間および/または前記放射線検出器に対する放射線照射量に応じてサイズが変化しない非変形欠陥画素の各々について、所定の画像処理により前記通常画像中の各非変形欠陥画素に対応する画像データの補正を行う ことを特徴とする放射線画像処理方法。
IPC (4件):
A61B 6/00 ,  H04N 5/32 ,  G01T 1/24 ,  H04N 5/335
FI (5件):
A61B6/00 300S ,  H04N5/32 ,  G01T1/24 ,  A61B6/00 350M ,  H04N5/335 P
Fターム (18件):
2G088FF02 ,  2G088GG21 ,  2G088JJ05 ,  2G088KK32 ,  2G088LL11 ,  2G088LL17 ,  4C093AA01 ,  4C093CA13 ,  4C093EB12 ,  4C093EB13 ,  4C093EB17 ,  4C093FC11 ,  4C093FC16 ,  4C093FC30 ,  5C024AX11 ,  5C024CX23 ,  5C024CX24 ,  5C024CX26
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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