特許

J-GLOBAL ID：200903078345287684

感光性組成物及びそれを用いたパタ-ン形成方法

発明者： 藤原 正裕 ,  田口 裕務
出願人/特許権者： 東亞合成株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-000178
公開番号（公開出願番号）：特開2000-199962
出願日： 1999年01月04日
公開日（公表日）： 2000年07月18日
要約：

【要約】【課題】紫外線等の活性エネルギー線の照射によって厚膜パターンの形成が可能である感光性組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】下記式(1)で表される繰り返し単位を有する光硬化性シラザン化合物(A)、少なくとも2個の(メタ)アクリロイル基を有する光硬化性化合物(B)及び光重合開始剤(C)を含有する感光性組成物。【化1】(上式において、R1はラジカル重合性不飽和基を含む基であり、R2及びR3は互いに同一であるか又は異なる基であり、水素原子、炭素原子数1〜3のアルキル基、アリール基又はラジカル重合性不飽和基を含む基である。)

請求項（抜粋）：

下記式(1)で表される繰り返し単位を有する光硬化性シラザン化合物(A)、少なくとも2個の(メタ)アクリロイル基を有する光硬化性化合物(B)及び光重合開始剤(C)を含有することを特徴とする感光性組成物。【化1】(上式において、R1はラジカル重合性不飽和基を含む基であり、R2及びR3は互いに同一であるか又は異なる基であり、水素原子、炭素原子数1〜3のアルキル基、アリール基又はラジカル重合性不飽和基を含む基である。)

IPC (7件)：

G03F 7/075 511 ,  C09D 4/00 ,  G03F 7/027 501 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/30 ,  G03F 7/40 501 ,  H01L 21/027

FI (7件)：

G03F 7/075 511 ,  C09D 4/00 ,  G03F 7/027 501 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/30 ,  G03F 7/40 501 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (26件)：

2H025AA00 ,  2H025AB15 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC14 ,  2H025BC42 ,  2H025BC53 ,  2H025BC77 ,  2H025CA01 ,  2H025FA03 ,  2H025FA15 ,  2H025FA29 ,  2H096AA00 ,  2H096BA05 ,  2H096BA06 ,  2H096BA20 ,  2H096EA02 ,  2H096GA02 ,  2H096HA01 ,  2H096JA04 ,  4J038FA012 ,  4J038FA211 ,  4J038KA04 ,  4J038PA17 ,  4J038PA19