特許
J-GLOBAL ID：200903078349585558
シリカゲルの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
,
代理人 (2件)：
工業技術院物質工学工業技術研究所長 (外1名)
, 畑岸 義夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-065629
公開番号（公開出願番号）：特開平7-242410
出願日： 1994年03月08日
公開日（公表日）： 1995年09月19日
要約：
【要約】【目的】 高い比表面積でしかもその調整が容易なシリカゲルの製造方法を提供する。【構成】 ケイ素のアルコキシドにクエン酸または酒石酸から選ばれた有機酸を、有機酸/Siモル比として0.7〜1.3の範囲となるように加えて加水分解を行い、加水分解物を乾燥した後、300〜500°Cの範囲の温度で焼成することによりシリカゲルを得る。このシリカゲルの製造方法によれば、容易にシリカゲルの比表面積を調整することができ、しかも高い比表面積のシリカゲルを得ることができる。またこの方法は、従来知られている高比表面積のシリカゲルの製造方法に比べその工程が簡易であり産業上有益な方法である。
請求項（抜粋）：
ケイ素のアルコキシドにクエン酸または酒石酸から選ばれた有機酸を、有機酸/Siモル比として0.7〜1.3の範囲となるように加えて加水分解を行い、加水分解物を乾燥した後、300〜500°Cの範囲の温度で焼成することからなるシリカゲルの製造方法。
引用特許：
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