特許

J-GLOBAL ID：200903078360886217

プラズマ反応容器及びガス改質方法

発明者： 弥延 剛 ,  藤代 秀行 ,  堂坂 健児 ,  鳥居 稔 ,  安藤 和夫 ,  小谷 耕爾
出願人/特許権者： 北辰工業株式会社 ,  本田技研工業株式会社
代理人 (1件)： 栗原 浩之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-140300
公開番号（公開出願番号）：特開2001-314754
出願日： 2000年05月12日
公開日（公表日）： 2001年11月13日
要約：

【要約】【課題】 反応ガスの反応過程に合わせた、プラズマによるガス改質反応器を提供すると共に、その結果ガス改質効率を飛躍的に向上させる。【解決手段】 相対向する第1の平板型電極3及び第2の平板型電極4と、これら両電極の間に介装される誘電体5と、前記両電極3,4間に電位差を付与する電位差付与手段6とを備えてなり、前記両電極間に高電圧を印加してその間に導入したガスを分解するプラズマ反応容器であって、前記第1の電極3及び第2の電極4のガス導入方向に略直交する方向の幅Wと、ガス導入方向に沿った長さLとの比を、改質ガスの改質反応によって設定する。

請求項（抜粋）：

相対向する第1の平板型電極及び第2の平板型電極と、これら両電極の間に介装される誘電体と、前記両電極間に電位差を付与する電位差付与手段とを備えてなり、前記両電極間に高電圧を印加してその間に導入したガスを分解するプラズマ反応容器であって、前記第1の電極及び第2の電極のガス導入方向に略直交する方向の幅Wと、ガス導入方向に沿った長さLとの比を、改質ガスの改質反応によって設定してあることを特徴とするプラズマ反応容器。

IPC (3件)：

B01J 19/08 ,  C07B 61/00 ,  C07C 2/80

FI (4件)：

B01J 19/08 E ,  C07B 61/00 C ,  C07B 61/00 D ,  C07C 2/80

Fターム (13件)：

4G075AA03 ,  4G075BA05 ,  4G075CA15 ,  4G075CA47 ,  4G075DA18 ,  4G075EB42 ,  4G075EC21 ,  4G075FB04 ,  4G075FC15 ,  4H006AA02 ,  4H006AA04 ,  4H006AC26 ,  4H006BA91

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平2-211220
  
• 特開昭51-057691
  
• 特開平2-211220
  
• 特開昭51-057691