特許
J-GLOBAL ID：200903078372546055
X線露光用マスクおよびそのブランク
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
市之瀬 宮夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-278339
公開番号（公開出願番号）：特開平5-090136
出願日： 1991年09月30日
公開日（公表日）： 1993年04月09日
要約：
【要約】【目的】 高精度のアライメントを可能にしたX線露光用マスクおよびそのブランクを提供する。【構成】 基板3上に、アライメント光に対する反射防止条件を満足する屈折率の異なる同種又は異種の多層膜構造1a,1b,1cからなるX線透過膜1が形成され、その上にパターン化されたX線吸収体の薄膜2が形成されている。
請求項（抜粋）：
X線透過膜上にパターン化されたX線吸収体の薄膜を形成したX線露光用マスクにおいて、前記X線透過膜がアライメント光に対する反射防止条件を満足する屈折率の異なる同種又は異種の多層膜構造であることを特徴とするX線露光用マスク。
IPC (2件)：
引用特許：
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