特許
J-GLOBAL ID：200903078378667210
干渉計
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
川野 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-182064
公開番号（公開出願番号）：特開平9-014911
出願日： 1995年06月26日
公開日（公表日）： 1997年01月17日
要約：
【要約】【目的】 第1光ビーム及び第2光ビームの合成により干渉光を生成する干渉計のいずれかの光ビーム光路上に流体注入部を配置し、該流体注入部内に光路長調整媒質を充填することにより、光路のひずみを生じることなく光路長の調整を行う。【構成】 第1光ビーム16及び第2光ビーム18の少なくともいずれか一方の光路上に光学的光路長調整手段50を配置し、該光学的光路長調整手段50は、光ビームを通過させる流体注入部52と、他の光路上の媒質とは異なる屈折率を有し該流体注入部内に充填可能な流体状媒質とを備えたことを特徴とする干渉計。
請求項（抜粋）：
可干渉光ビームを出射する光ビーム出射手段と、該可干渉光ビームを第1光ビームおよび第2光ビームに分離する光ビーム分離手段とを有し、該第1光ビームおよび第2光ビームを再合成して干渉光を生成する干渉計において、第1光ビームおよび第2光ビームの少なくともいずれか一方の光路上に光学的光路長調整手段を配置し、該光学的光路長調整手段が、光ビームを通過させる流体注入部と、他の光路上の媒質とは異なる屈折率を有する該流体注入部内に充填可能な流体状媒質とを備えたことを特徴とする干渉計。
IPC (4件)：
G01B 9/02
, G01B 11/00
, G01N 21/45
, G02B 26/00
G01B 9/02
, G01B 11/00 G
, G01N 21/45 A
, G02B 26/00
