特許
J-GLOBAL ID:200903078394188594
自由形状製造低密度材料システム
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件):
後藤 政喜
, 松田 嘉夫
, 上野 英夫
, 飯田 雅昭
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-518560
公開番号(公開出願番号):特表2006-515812
出願日: 2004年01月09日
公開日(公表日): 2006年06月08日
要約:
自由形状製造システム(100)は、好ましくは低密度の粒子と、カチオン高分子電解質成分と、アニオン高分子電解質成分と、カチオン高分子電解質成分およびアニオン高分子電解質成分間の反応を刺激して低密度の粒子結合された高分子電解質合成物を形成することができる極性溶媒を主成分とするバインダとを含む。
請求項(抜粋):
低密度の粒子と、
カチオン高分子電解質成分と、
アニオン高分子電解質成分と、
前記カチオン高分子電解質成分および前記アニオン高分子電解質成分間の反応を刺激して、低密度の粒子結合された高分子電解質合成物を形成することができる極性溶媒を主成分とするバインダと
を含む急速プロトタイプ作成材料システム。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (12件):
4F213AA01
, 4F213AA20
, 4F213AA48
, 4F213AB17
, 4F213WA21
, 4F213WA32
, 4F213WA97
, 4F213WB01
, 4F213WB22
, 4F213WF01
, 4F213WF25
, 4F213WF46
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