特許
J-GLOBAL ID：200903078401722895
末端にメルカプト基を有する重合体の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-063655
公開番号（公開出願番号）：特開2002-265508
出願日： 2001年03月07日
公開日（公表日）： 2002年09月18日
要約：
【要約】【課題】 高い収率で重合体の末端にメルカプト基を導入することができ、重合体へのメルカプト基導入率や重合体の末端官能化率を制御でき、重合体の分子量や分子量分布を制御する簡便な方法を提供することであり、かつ、耐熱性、耐光性、および耐候性に優れる、末端にメルカプト基を有する重合体の簡便な製造方法を提供することである。【解決手段】 一般式(1)および一般式(2)から選ばれるチオカルボニルチオ構造を有する化合物の存在下、不飽和単量体をラジカル重合し、得られた重合体をヒンダードアミン系光安定剤(HALS)等のヒンダードアミン化合物で処理することにより、末端にメルカプト基を有する重合体を製造する。
請求項（抜粋）：
一般式(1)【化1】(式中、R1は炭素数1以上のp価の有機基であり、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、ハロゲン原子、ケイ素原子、リン原子、金属原子を含んでいてもよく、高分子量体であってもよい。Z1は水素原子;ハロゲン原子;または炭素数1以上の1価の有機基であり、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、ハロゲン原子、ケイ素原子、リン原子を含んでいてもよく、高分子量体であってもよい。pは1以上の整数である。pが2以上の場合、Z1は互いに同一でもよく、異なっていてもよい。)、および一般式(2)【化2】(式中、R2は炭素数1以上の1価の有機基であり、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、ハロゲン原子、ケイ素原子、リン原子、金属原子を含んでいてもよく、高分子量体であってもよい。Z2は硫黄原子;酸素原子;窒素原子;または炭素数1以上のm価の有機基であり、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、ハロゲン原子、ケイ素原子、リン原子を含んでいてもよく、高分子量体であってもよい。mは2以上の整数である。R2は互いに同一でもよく、異なっていてもよい。)からなる群から選ばれるチオカルボニルチオ構造を有する化合物の存在下、ラジカル重合可能な不飽和単量体をラジカル重合し、得られた重合体をヒンダードアミン化合物で処理することを特徴とする、末端にメルカプト基を有する重合体の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (24件)：
4J011NA26
, 4J011NB04
, 4J011NB05
, 4J100AA02P
, 4J100AA03P
, 4J100AB02P
, 4J100AB03P
, 4J100AC03P
, 4J100AC04P
, 4J100AC23P
, 4J100AG04P
, 4J100AJ02P
, 4J100AK32P
, 4J100AL03P
, 4J100AM02P
, 4J100AM15P
, 4J100AS02P
, 4J100AS03P
, 4J100AS07P
, 4J100BA52H
, 4J100CA31
, 4J100FA04
, 4J100HA61
, 4J100HC63
